• Langue : Français
• Discipline : Sciences des matériaux
• Identifiant : Inconnu
• Type de thèse : Doctorat
• Date de soutenance : 01/01/1996

Résumé en langue originale

DEUX ASPECTS FONDAMENTAUX DE L'OXYDATION BASSE TEMPERATURE ASSISTEE PAR PLASMA D'OXYGENE DES ALLIAGES SILICIUM GERMANIUM ONT ETE ETUDIES: LA NATURE CHIMIQUE DE L'OXYDE ET LES CINETIQUES D'OXYDATIONS DE CES ALLIAGES. LA NATURE DE L'OXYDE FORME VARIE EN FONCTION DU TEMPS D'OXYDATION. DANS UN PREMIER TEMPS, L'OXYDE FORME EST DU DIOXYDE DE SILICIUM (SIO#2) ET LE GERMANIUM S'ACCUMULE A L'INTERFACE OXYDE/SUBSTRAT. NOUS AVONS MONTRE, QUE CETTE ACCUMULATION SE FAIT SOUS LA FORME D'UNE COUCHE DE GERMANIUM PUR. DANS UN DEUXIEME TEMPS, LE GERMANIUM S'INCORPORE AU DIOXYDE DE SILICIUM SOUS FORME D'AGREGATS AVANT D'ETRE OXYDE ET DE DIFFUSER VERS LA SURFACE EXTERNE DE L'OXYDE. EN OXYDATION ASSISTEE PAR OXYGENE ATOMIQUE, NOUS AVONS MONTRE QUE LES ALLIAGES SIGE S'OXYDENT PLUS VITE QU'UN SUBSTRAT DE SILICIUM. CECI EST ATTRIBUE A LA FRAGILISATION DES LIAISONS DU SUBSTRAT DUE A LA PRESENCE DE GERMANIUM. DANS LE CAS DE L'ANODISATION, LES ALLIAGES SIGE S'OXYDENT EGALEMENT PLUS VITE QUE LE SILICIUM. NOUS AVONS MONTRE QUE LE MECANISME LIMITANT LA REACTION D'ANODISATION EST LA RELAXATION DE CONTRAINTE ENTRE L'OXYDE ET LE SUBSTRAT. LA QUALITE ELECTRONIQUE DES OXYDES FORMES A PARTIR DE SIGE EST MOINS BONNE QUE CEUX FORMES A PARTIR DE SILICIUM MAIS NOUS POUVONS ENVISAGER UNE AMELIORATION DE CETTE QUALITE GRACE A DES TRAITEMENTS THERMIQUES APPROPRIES